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济南半导体行业废气处理方案分析

文章出处:张欣阳TAG标签:废气处理设备(187)废气治理(159)半导体行业(1) 人气:发表时间:2020-03-22 07:15:31

    如果要了解济南半导体行业废气处理方案分析,其实讲的主要内容是半导体行业,废气治理,废气处理设备,环保必须要达标,半导体工业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量的有机化合物。在这个过程中,这些有机溶剂大部分挥发为废气,这类气体的排放一般采用吸附法、焚烧法或两
半导体工业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量的有机化合物。在这个过程中,这些有机溶剂大部分挥发为废气,这类气体的排放一般采用吸附法、焚烧法或两者结合的方法。
行业特点
目前,这类气体的排放一般采用吸附法、焚烧法或两者结合的方法。吸附是利用多孔固体吸附剂对混合气体进行处理,使其中的一种或多种组分能够吸附在固体表面,达到分离的目的。该吸附剂选择性高,能分离其它工艺难以分离的混合物,能有效去除(或回收)低浓度有害物质,净化效率高,设备简单,操作方便,可实现自动控制。
但固体吸附剂吸附容量小,需要大量吸附剂,设备庞大,吸附后需要再生处理,这是吸附处

理的主要缺点。从半导体生产现场挥发出的有机废气经就地排气罩收集后,经管道送至吸附净化系统。一般用活性炭作吸附剂。由于活性炭是一种非极性吸附剂,其对废气中水汽的敏感性不高,价格低廉。焚烧法也广泛应用于半导体工业的各种有机废气处理,有机物通过热氧化转化为二氧化碳和水。同时,焚烧也是处理流量和浓

度稳定的废气的好方法。在热氧化过程中,有机废气被加热,气相有机物被氧化。为了节省燃料,通常采用换热器回收焚烧产生的热量,对进口燃气进行预热。这种方法通常用于处理大流量、低浓度的气体。由于半导体工业中的废气焚烧产生二氧化硅,二氧化硅钝化催化剂,接触氧化在半导体工业中应用较少。
一些半导体工厂也使用旋转浓缩系统来收集有机废气,如沸石浓缩轮。由于半导体工艺中有机废气排放量大(通常大于11039m3h),浓度低(通常小于25ppmv),采用其它处理技术难以达到满意的处理效果。沸石浓缩轮采用内有吸附材料的旋转轮,吸附材料部分暴露在废气流中。转轮吸收废气中的挥发性污染物,并用蒸汽或热将其解吸。解吸气流中收集了高浓度的挥发物,低浓度和高浓度的气流可以很好地氧化。旋转浓缩系统在半导体工业中的一个缺点是对甲醇的亲和性差,去除率只有40-60%。
总之,在废气处理方面,半导体行业的酸碱废气一般采用相应的碱吸收和酸吸收处理。工艺方法非常成熟。只要对相关工艺参数进行适当优化,就能满足本标准的要求,对有机废气的处理也需要引起重视。目前,有机废气的处理工艺有吸附、吸附、直接燃烧、催化燃烧、冷凝等,吸附法采用活性炭直接吸附,净化效果好,但操作成本高;吸附法适用于低温,中高浓度废气;直接燃烧法适用于高浓度、小风量废气处理;冷凝法适

用于组分相单一、高浓度,对有机废气有一定回收价值。对于半导体工业中浓度低、风量大、成分复杂的有机废气,吸附法、吸附法、燃烧法和冷凝法不适用,吸附催化燃烧法更适用。目前,省内一些大型半导体企业已采用沸石转轮进行浓缩燃烧。该方法适用于大风量、低浓度、常温的有机废气处理。净化效率达90%以上,浓缩比为20:1。运行成本低,设备处理风量大,占地面积小,不产生二次污染,污染物可连续脱附处理。根据企业实际运行情况,有机废气进气浓度大于200mgm3时,处理效率达到95%,小于200mgm3时,处理后浓度控制在20mgm3,可确保废气达标排放。
    以上由活性炭吸附脱附燃烧设备小编为您介绍了济南半导体行业废气处理方案分析,主要说的还是半导体行业,废气治理,废气处理设备的问题,如果需要了解更详细的方案或者报价,欢迎拨打电话:0531-83270456

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